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04-13
2022
我国高纯溅射靶材实现进口替代 行业发展前景可期
高纯溅射靶材主要是指纯度为99.9%-99.9999%的金属或非金属靶材,应用于电子元器件制造的物理气象沉积工艺,是制备晶圆、面板、太阳能电池等表面电子薄膜的关键材料。 溅射镀膜相比真空镀膜工艺可重复性好、膜厚可控制,可在大面积基板材料上获得厚度均匀的薄膜,所制备的薄膜具有纯度高、致密...
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