本镀膜系统为圆形真空室结构,后部抽气,正面开门结构,采用优质奥氏体不锈钢制造。溅射沉积室顶板上安装有一只(二只)2inch(或3inch)磁控溅射靶,出射束流方向朝向基片架并在基片上得到薄膜。该设备结构简单,可用于研究和开发纳米级单层及多层功能膜,如硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜、复合膜、铁磁膜和磁性薄膜等新型薄膜材料。
系统主要参数
l 极限真空度:≤6×10-5Pa(清洁+烘烤去气条件下12小时内获得);
l 抽真空时间:30分钟内,≤6×10-4Pa;
l 基片加热温度:≤600℃;
l 基片尺寸:≤Φ3inch的圆片;
l 基片架数量:1套;
l 靶材尺寸:直径50mm(可选3inch);
l 靶数量:1只或者2个;
l 真空室尺寸:DN250*340(根据实际情况可能会适当调整);
l 基片架移动距离:≤50mm(轴向方向);
l 靶轴线和基片旋转轴线夹角:共溅射;
l 气路系统:2路进气,其中1路为放气使用;
系统主要配置说明
项目 | 规格及说明 | |
空 室 | 溅射真空室 | DN220*320,尺寸根据设计要求适当调整,上盖可开启,测开门 |
超高真空节流阀 | DN100,电动控制,可选自动恒压功能 | |
分子泵 | 分子泵110L/S或150L/S | |
机械泵 | DVR16 旋片泵,兼起预抽泵和前级泵作用 | |
挡板阀 | DN25电磁挡板阀,预抽管道通断 | |
截止阀 | 6mm双卡套接口电动截止阀 | |
照明及烘烤装置 | 选配 | |
各型法兰及观察窗 | DN16、35、63、100、150 | |
不锈钢管路、管接头 | 各种规格精密不锈钢管、波纹管、管接头 | |
真 空 测 量 与 进 气 | 数显复合真空计 | 5227复合真空计或进口全量程规管可选 |
金属裸规 | ZJ52T,ZJ27 金属接口 | |
质量流量控制器 | D07-7B质量流量控制器 量程100sccm | |
管路及接头 | 配混气室 | |
截止阀 | 6mm双卡套接口电动截止阀 | |
进气等控制接口 | 调压阀电动控制,可反馈 | |
样 品 架 | 转动基片架 | 基片旋转、基片架升降 |
升降装置 | 升降手动调整 | |
溅射基片加热装置 | ≤600℃ 加热装置选配 | |
温控电源 | 日本岛电温控,PID控温 | |
溅 射 系 统 | 磁控溅射靶 | 一体式溅射靶,可选2寸或3寸,带挡板 |
溅射电源 | 500W可选直流或射频 | |
设备机架 | 一体式布局 | |
水气路系统 | 含冷却水机 | |
控制系统 | 标配手动,可选触摸屏自动控制 |
0551-68859919