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溅射镀膜系统

DM200-250磁控溅射系统

  • 本镀膜系统为圆形真空室结构,后部抽气,正面开门结构,采用优质奥氏体不锈钢制造。溅射沉积室顶板上安装有一只(二只)2inch(或3inch)磁控溅射靶,出射束流方向朝向基片架并在基片上得到薄膜。该设备结构简单,可用于研究和开发纳米级单层及多层功能膜,如硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜、复合膜、铁磁膜和磁性薄膜等新型薄膜材料。...
  • 产品详情

    本镀膜系统为圆形真空室结构,后部抽气,正面开门结构,采用优质奥氏体不锈钢制造。溅射沉积室顶板上安装有一只(二只)2inch(或3inch)磁控溅射靶,出射束流方向朝向基片架并在基片上得到薄膜。该设备结构简单,可用于研究和开发纳米级单层及多层功能膜,如硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜、复合膜、铁磁膜和磁性薄膜等新型薄膜材料。

系统主要参数

l 极限真空度:≤6×10-5Pa(清洁+烘烤去气条件下12小时内获得);

l 抽真空时间:30分钟内,≤6×10-4Pa;

l 基片加热温度:≤600℃;

l 基片尺寸:≤Φ3inch的圆片;

l 基片架数量:1套;

l 靶材尺寸:直径50mm(可选3inch);

l 靶数量:1只或者2个;

l 真空室尺寸:DN250*340(根据实际情况可能会适当调整);

l 基片架移动距离:≤50mm(轴向方向);

l 靶轴线和基片旋转轴线夹角:共溅射;

l 气路系统:2路进气,其中1路为放气使用;

系统主要配置说明

项目

规格及说明

溅射真空室

DN220*320,尺寸根据设计要求适当调整,上盖可开启,测开门

超高真空节流阀

DN100,电动控制,可选自动恒压功能

分子泵

分子泵110L/S或150L/S

机械泵

DVR16 旋片泵,兼起预抽泵和前级泵作用

挡板阀

DN25电磁挡板阀,预抽管道通断

截止阀

6mm双卡套接口电动截止阀

照明及烘烤装置

选配

各型法兰及观察窗

DN16、35、63、100、150

不锈钢管路、管接头

各种规格精密不锈钢管、波纹管、管接头

数显复合真空计

5227复合真空计或进口全量程规管可选

金属裸规

ZJ52T,ZJ27 金属接口

质量流量控制器

D07-7B质量流量控制器   量程100sccm

管路及接头

配混气室

截止阀

6mm双卡套接口电动截止阀

进气等控制接口

调压阀电动控制,可反馈

转动基片架

基片旋转、基片架升降

升降装置

升降手动调整

溅射基片加热装置

≤600℃  加热装置选配

温控电源

日本岛电温控,PID控温

磁控溅射靶

一体式溅射靶,可选2寸或3寸,带挡板

溅射电源

500W可选直流或射频

设备机架

一体式布局

水气路系统

含冷却水机

控制系统

标配手动,可选触摸屏自动控制


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