本设备是我公司研发用于真空蒸发镀光学薄膜、有机物薄膜和金属薄膜。特别适合于高科技企业、科研单位和高校用于膜层研究和膜系开发。
主要技术参数:
1. 真空室:∅220mm*H380mm;2. 最大可镀工件直径:60*60mm,配抽拉式样品台,样品可旋转;样品台配挡板;
3. 极限真空度:8*10-5Pa(分子泵系统);4. 抽气时间:大气压~6*10-4Pa小于30min(分子泵系统);5. 蒸发源:可配备1~2组金属或有机蒸发源;
6. 开启方式:正面开门结构,便于换丝及装料;7. 真空系统:分子泵+机械泵;
8. 水冷循环系统 0.5P;
9. 控制系统可选手动或触摸屏自动控制。
系统主要配置说明
项目 | 规格及说明 | |
真 空 室 | 蒸发真空室 | DN220*380,尺寸根据设计要求适当调整,上盖可开启,侧开门 |
分子泵 | 分子泵110L/S或150L/S | |
机械泵 | DVR16 旋片泵,兼起预抽泵和前级泵作用 | |
挡板阀 | DN25电磁挡板阀,预抽管道通断 | |
截止阀 | 6mm双卡套接口电动截止阀 | |
照明及烘烤装置 | 选配 | |
各型法兰及观察窗 | DN16、35、63、100 | |
不锈钢管路、管接头 | 各种规格精密不锈钢管、波纹管、管接头 | |
真 空 测 量 与 进 气 | 数显复合真空计 | 5227复合真空计或进口全量程规管可选 |
金属裸规 | ZJ52T,ZJ27 金属接口 | |
管路及接头 | 配混气室 | |
截止阀 | 6mm双卡套接口电动截止阀 | |
进气等控制接口 | 手动或电控 | |
样 品 架 | 转动基片架 | 基片旋转、基片架升降 |
升降装置 | 升降手动调整 | |
基片加热装置 | ≤600℃ 加热装置选配 | |
温控电源 | 日本岛电温控,PID控温选配 | |
蒸 发 系 统 | 蒸发源 | 水冷蒸发源,可选1~2组 |
蒸发电源 | 8-200A | |
设备机架 | 一体式布局 | |
水气路系统 | 含冷却水机 | |
控制系统 | 标配手动,可选触摸屏自动控制 |
0551-68859919