本系统为双真空室结构，由一个进样室和一个溅射沉积室组成。采用圆筒或方形结构形式。磁控溅射沉积室和进 样室通过插板阀连接在一起，在沉积室中完成利用磁控溅射方法沉积单质膜、多层膜、混合物薄膜的过程。样品可 以在沉积室不暴大气条件下，通过进样室送到溅射沉积室，从而避免沉积室的污染。溅射沉积室装有 4inch 或2inch 磁控溅射靶3~5只，用以完成各种溅射过程。溅射靶采用一体式溅射靶,共焦溅射模式，自带挡板系统，方便使用及维护。额外再预留一靶位。进样室可以在不破坏溅射室真空度的条件下，完成向该真空室的进/取样过程。可一次安装直径不大于120mm 的基片载体。
系统主要配置说明
项目 | 规格及说明 | |
镀 膜 真 空 室 | 溅射真空室 | 500×500×H450mm，尺寸根据设计要求适当调整，测开门 |
超高真空节流阀 | DN250,电动控制,可选自动恒压功能 | |
分子泵 | 分子泵1600L/S | |
机械泵 | BSV40旋片泵，兼起预抽泵和前级泵作用 | |
挡板阀 | DN40电磁挡板阀，预抽管道通断 | |
截止阀 | 6mm双卡套接口电动截止阀 | |
照明及烘烤装置 | 烘烤选配 | |
各型法兰及观察窗 | DN16、35、63、100、200、250 | |
不锈钢管路、管接头 | 各种规格精密不锈钢管、波纹管、管接头 | |
真 空 测 量 与 进 气 | 数显复合真空计 | 5227复合真空计或进口全量程规管可选 |
金属裸规 | ZJ52T，ZJ27 金属接口 | |
质量流量控制器 | D07-7B质量流量控制器3套 | |
管路及接头 | 配混气室 | |
截止阀 | 6mm双卡套接口电动截止阀 | |
进气等控制接口 | 调压阀电动控制，可反馈 | |
样 品 架 | 转动基片架 | 基片旋转、基片架升降，基片偏压可选 |
升降装置 | 电动升降，带位置显示 | |
溅射基片加热装置 | ≤600℃ 加热装置选配 | |
温控电源 | 日本岛电温控，PID控温 | |
溅 射 系 统 | 磁控溅射靶 | 4组一体式溅射靶，可选2寸或3寸，带挡板 |
溅射电源 | 2台500W直流电源和2台500W自动匹配射频电源 | |
设备机架 | 分体式布局 | |
水气路系统 | 含冷却水机 | |
控制系统 | 标配触摸屏自动控制 | |
样 品 室 组 件 | 进样室 | DN250×300mm，尺寸根据设计要求适当调整，水平或立式可选， |
进样室抽气系统 | 110L/S分子泵+4L机械泵 | |
主阀 | DN100气动挡板阀或插板阀 | |
截止阀 | KF25电磁挡板阀 | |
腔体过度阀 | DN150接口气动插板阀，控制镀膜室与样品室隔离 | |
送样杆 | 采用磁力驱动或波纹管电动驱动 | |
样品库 | 最大放置直径120mm样品，6件，选配 | |
真空测量 | 5227复合真空计或进口全量程规管可选 | |
清洗与退火 | 可实现镀膜前等离子体清洗，镀膜后退火处理，选配 | |
进气系统 | D07-7B质量流量控制器1套，选配 | |
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