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溅射镀膜系统

非标磁控溅射系统 大面积溅射镀膜机

  • 该超高真空磁控溅射镀膜机的基本参数如下:l 镀膜室极限真空:310-5Pa;l 抽气时间:30分钟内优于810-4Pa;l 真空室尺寸:450mmH350mm,真空室采用不锈钢加工而成,配玻璃观察窗,侧门可开启;最大可镀300300mm方片;l 靶尺寸、数量:2只70*350mm永磁靶。靶材尺寸:703505mm;l 靶基距可调(40~80mm);l 反溅清洗与偏压:偏压-800V,可满足反溅清洗...
  • 产品详情

该超高真空磁控溅射镀膜机的基本参数如下:

l 镀膜室极限真空:≤3×10-5Pa;

l 抽气时间:30分钟内优于8×10-4Pa;

l 真空室尺寸:450mm×H350mm,真空室采用不锈钢加工而成,配玻璃观察窗,侧门可开启;最大可镀300×300mm方片;

l 靶尺寸、数量:2只70*350mm永磁靶。靶材尺寸:70×350×5mm;

l 靶基距可调(40~80mm);

l 反溅清洗与偏压:偏压-800V,可满足反溅清洗;

l 主机尺寸:长1060mm×宽600mm×高1600mm;(根据需要,尺寸会适当调整)

l 气体种类:工作气体Ar+反应气体;


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