该系统为单真空室配置,内置一套4~6工位电子枪及2组金属蒸发源,真空室尺寸500×500×650mm(根据设计需要适当调整),腔体采用304不锈钢加工而成,内表面抛光,外表面喷丸处理。为便于实验操作采用侧开门形式,抽气口后置,门上配备玻璃观察窗(含防污染挡板),镀膜过程在该真空室内完成。同时考虑到系统拓展需要,预留所需法兰接口。
电子枪及蒸发电极安装在真空底板上。电子枪选用功率为8KW、六工位水冷坩埚E型电子枪。配备2组金属蒸发源,一套电源切换使用。
基片架采用焊接波纹管+磁流体结构,样品托采用拱形结构,最大直径为100mm,蒸距450-550 mm可调,利用焊接波纹管变形获得。基片转速度3-60转/分,可控可调(步进电机控制)。
此外根据需要可以选配高压轰击装置或离子源辅助沉积系统。
系统标配膜厚测量仪,可选配膜厚控制仪,实现镀膜过程自动控制。
系统主要配置说明
项目 | 规格及说明 | |
真 空 室 | 蒸发真空室 | φ500*H650mm,尺寸根据设计要求适当调整,侧开门 |
分子泵 | 分子泵1600L/S | |
机械泵 | BSV40 旋片泵,兼起预抽泵和前级泵作用 | |
挡板阀 | DN40电磁挡板阀,预抽管道通断 | |
截止阀 | 6mm双卡套接口电动截止阀 | |
照明及烘烤装置 | 选配 | |
各型法兰及观察窗 | DN16、35、63、100、250 | |
不锈钢管路、管接头 | 各种规格精密不锈钢管、波纹管、管接头 | |
真 空 测 量 与 进 气 | 数显复合真空计 | 5227复合真空计或进口全量程规管可选 |
金属裸规 | ZJ52T,ZJ27 金属接口 | |
管路及接头 | 配阀门 | |
截止阀 | 6mm双卡套接口电动截止阀 | |
进气等控制接口 | 手动或电控 | |
样 品 架 | 转动基片架 | 基片旋转、基片架升降 |
升降装置 | 升降手动调整或电动升降 | |
基片加热装置 | ≤400℃ 加热装置选配 | |
温控电源 | 日本岛电温控,PID控温选配 | |
蒸 发 系 统 | 电子枪 | E型电子枪,4~6工位坩埚可选,10KW |
蒸发源 | 水冷蒸发源,2组 | |
蒸发电源 | 8-200A,1套 | |
离子源系统 | 可选高压轰击或霍尔离子源 | |
膜厚仪 | 石英晶振膜厚仪,可选膜厚控制仪,自动镀膜 | |
设备机架 | 一体式布局 | |
水气路系统 | 含冷却水机 | |
控制系统 | 标配触摸屏自动控制 |
0551-68859919